2026年慕尼黑上海光博會于2026年3月18日至20日在上海新國際博覽中心舉辦。作為全球領(lǐng)先的光子解決方案提供商，炬光科技參加展會同期“AI算力網(wǎng)絡(luò)光互聯(lián)技術(shù)論壇”及“新品首發(fā)舞臺與新應(yīng)用解決方案講壇”，并帶來兩場技術(shù)報告，與業(yè)界同仁分享最新進展與創(chuàng)新成果。

誠邀各位新老客戶、合作伙伴與業(yè)內(nèi)專家蒞臨現(xiàn)場，一起探索技術(shù)趨勢，共話產(chǎn)業(yè)未來！

演講題目：微納光學(xué)·無限可能：多元技術(shù)，驅(qū)動強大的數(shù)據(jù)通信解決方案

演講人：田勇，激光光學(xué)事業(yè)部副總經(jīng)理
時間：3 月19日 14:45 – 15:10
地點：N5 館論壇區(qū) AI算力網(wǎng)絡(luò)光互聯(lián)技術(shù)論壇

隨著 AI / 云計算 / 超大規(guī)模數(shù)據(jù)中心的快速增長，數(shù)據(jù)通信系統(tǒng)正面臨更高帶寬、更低功耗、更小尺寸以及更快上市周期等多重挑戰(zhàn)。傳統(tǒng)光器件設(shè)計往往受限于單一工藝或單一材料，難以同時兼顧性能、成本、可制造性與可靠性，給系統(tǒng)集成商和模塊廠商帶來了顯著的設(shè)計與交付壓力。

本次報告分享我們?nèi)绾我浴拔⒓{光學(xué)·無限可能”為核心理念，構(gòu)建覆蓋光刻反應(yīng)離子蝕刻、晶圓級同步結(jié)構(gòu)化、精密玻璃模壓、晶圓級精密壓印等多種微納光學(xué)制備技術(shù)平臺，在同一全球制造體系下，為可插拔光模塊、FAU、OCS、PIC等應(yīng)用提供從設(shè)計、驗證到量產(chǎn)的一體化解決方案，深度參與CPO、NPO、OIO技術(shù)路線和生態(tài)鏈。

報告還通過真實應(yīng)用案例，展示微納光學(xué)在提升耦合效率、優(yōu)化裝配公差、降低系統(tǒng)復(fù)雜度，并加速產(chǎn)品量產(chǎn)導(dǎo)入等方面的實際價值。我們希望當(dāng)行業(yè)遇到難題時，讓“你有挑戰(zhàn)，我們有解決方案”成為一種確定性。

演講題目：全新升級精密設(shè)計V型槽陣列：推動高通道光纖陣列集成的變革

演講人：張浩，炬光科技研發(fā)經(jīng)理
時間：3月20日 10:15 – 10:30
地點：N5 館論壇區(qū) 新品首發(fā)舞臺與新應(yīng)用解決方案講壇

隨著高速光通信系統(tǒng)向更高通道數(shù)、更高集成度和更嚴(yán)苛裝配公差持續(xù)演進，多通道光纖的高精度、可擴展對準(zhǔn)已成為關(guān)鍵基礎(chǔ)能力。本報告介紹炬光科技精密設(shè)計V型槽陣列的最新技術(shù)升級與產(chǎn)品進展，闡述其如何通過晶圓級制造與結(jié)構(gòu)創(chuàng)新，支撐下一代光通信系統(tǒng)的發(fā)展需求。

報告重點分享該系列產(chǎn)品在性能層面的全面提升，以及在同一陣列內(nèi)同步實現(xiàn)多種間距與復(fù)雜表面結(jié)構(gòu)（V/U 型、凹凸面、自由曲面等）的先進加工能力。此外，報告還介紹新推出的多款典型產(chǎn)品配置，覆蓋不同材料體系、通道數(shù)和幾何參數(shù)，為光纖陣列單元（FAU）、低損耗PIC連接器、光通信模塊等高通道應(yīng)用提供更靈活的設(shè)計選擇。